光學(xué)顯微鏡(OM)

　　技術(shù)原理

　　光學(xué)顯微鏡的成像原理，是利用可見光照射在試片表面造成局部散射或反射來形成不同的對(duì)比，然而因?yàn)榭梢姽獾牟ㄩL高達(dá)4000-7000埃，在解析度(或謂鑒別率、解像能，系指兩點(diǎn)能被分辨的*近距離)的考量上，自然是*差的。在一般的操作下，由于肉眼的鑒別率僅有0.2 mm，當(dāng)光學(xué)顯微鏡的*佳解析度只有0.2 um 時(shí)，理論上的*高放大倍率只有1000 X，放大倍率有限，但視野卻反而是各種成像系統(tǒng)中*大的，這說明了光學(xué)顯微鏡的觀察事實(shí)上仍能提供許多初步的結(jié)構(gòu)資料。

　　機(jī)臺(tái)種類

　　分析應(yīng)用

　　光學(xué)顯微鏡的放大倍率及解析度，雖無法滿足許多材料表面觀察之需求，但仍廣泛應(yīng)用于下列之各項(xiàng)應(yīng)用，諸如：

　　元件橫截面結(jié)構(gòu)觀察；

　　平面式去層次 (Delayer) 結(jié)構(gòu)分析與觀察；

　　析出物空乏區(qū) (Precipitate Free Zone) 的觀察；

　　差排線與過蝕刻(Overetch)凹痕的觀察；

　　氧化疊差(Oxidation Enhanced Stacking Faults, OSF)的研究等。